1.3 组织芯片的制作及结果判断

　　首先在显微镜下对“供体”蜡块的切片选出典型病变部位，然后从“供体”蜡块标本中取出所需组织(每例肿瘤选定2个不同取样位点， 取样确保组织的代表性)，插入“受体”蜡块的洞内，排列成微组织阵列，制成组织芯片蜡块。用切片机对组织芯片蜡块进行连续切片，厚约4 μm，选取石蜡切片作HE染色，检查每一点是否与设计阵列中的组织一致。组织芯片石蜡切片作HE染色后，对组织芯片阵列中的每一点在显微镜下进行观察与核对，为保证实验结果的可靠性组织芯片中若存在以下情况之一即予剔出：组织定位与取材的偏差导致无效组织过多，有效细胞数过少，缺乏代表性;组织芯片脱片，即制片过程中组织芯的移位或脱落;记录被剔除的组织芯所在阵列，在下一步实验将不列入观察统计。

　　1.4 免疫组织化学染色

　　采用免疫组化染色二步法。首先，将制作成的组织芯片脱蜡至水，然后放入3 mL/L H2O2甲醇液中20 min(室温)。接着蒸馏水洗后，放入抗原修复液(pH 6.0)内微波修复20 min。pH 7.2 PBS缓冲液洗3次，滴加正常血清37 ℃，放置20 min;甩去多余血清后，将其放入PLC delta1的多克隆抗体中，4 ℃过夜。pH 7.2 PBS缓冲液洗3次后，放入1：200的二抗液体中，37 ℃下放置30 min。pH 7.2 PBS缓冲液洗3次，DAB显色5 min，水洗后，苏木素淡染，蓝化，脱水，透明，封固 (图1)。结果观察采用半定量的9分法：按染色的强度，阴性染色记为0分，弱阳性染色1 分，中度阳性 2分，强阳性3分。按阳性细胞数， × 400倍显微镜下每例观察5个视野，每个视野100个细胞，计数染色阳性细胞数，当阳性细胞数少于1%时，为0分;1% ～ 30%为1分;31% ～ 70%为2分;超过70%为3分。将两者的积分相乘(即0 ～ 9分)，记录染色结果。

　　1.5 统计学方法

　　采用SPSS 10.0统计软件进行统计处理。计数资料采用χ2检验。所有检验结果以P < 0.05为有统计学意义。

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